Hochschulschrift

Neue CVD-Verfahren zur Herstellung dünner Halbleiterschichten

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
ISBN
9783897123243
389712324X
Maße
21 cm
Umfang
99 S.
Ausgabe
1. Aufl.
Sprache
Deutsch
Anmerkungen
Ill., graph. Darst.
Zugl.: Göttingen, Univ., Diss., 1997

Schlagwort
CVD-Verfahren
Halbleiterschicht
Verbindungshalbleiter
Metallorganische Verbindungen
Ausgangsmaterial

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Göttingen
(wer)
Cuvillier
(wann)
1998
Urheber

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Letzte Aktualisierung
11.06.2025, 14:03 MESZ

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Objekttyp

  • Hochschulschrift

Beteiligte

Entstanden

  • 1998

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