Hochschulschrift | Online-Publikation
Modellierung eines Plasmaätzverfahrens am Beispiel der Ätzung einer Siliziumoberfläche durch ein Chlor-Argon-Plasma
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Umfang
-
Online-Ressource
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
Stuttgart, Univ., Diss., 2003
- Klassifikation
-
Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau
- Schlagwort
-
Silicium
Halbleiteroberfläche
Plasmaätzen
Chlor
Argon
Prozesssimulation
Silicium
Plasmaätzen
Elektron-Molekül-Stoß
Inelastischer Stoß
Energiespektrum
Plasmaätzen
- Urheber
- URN
-
urn:nbn:de:bsz:93-opus-15404
- Rechteinformation
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
25.03.2025, 13:50 MEZ
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Objekttyp
- Hochschulschrift
- Online-Publikation
Beteiligte
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