Reactive magnetron sputtering of Cu₂O: Dependence on oxygen pressure and interface formation with indium tin oxide
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Umfang
-
Online-Ressource
- Sprache
-
Englisch
- Erschienen in
-
In: Journal of Applied Physics, 109, (11), AIP Publishing, ISSN 0021-8979, https://doi.org/10.26083/tuprints-00019938
- Ereignis
-
Veröffentlichung
- (wo)
-
Darmstadt
- (wer)
-
Universitäts- und Landesbibliothek
- (wann)
-
2021
- DOI
-
10.26083/tuprints-00019938
- URN
-
urn:nbn:de:tuda-tuprints-199383
- Rechteinformation
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
25.03.2025, 13:48 MEZ
Datenpartner
Dieses Objekt wird bereitgestellt von:
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Beteiligte
- Deuermeier, Jonas
- Gassmann, Jürgen
- Brötz, Joachim
- Klein, Andreas
- Universitäts- und Landesbibliothek
Entstanden
- 2021
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