Hochschulschrift
Charakterisierung von dielektrischen Schichten für EEPROM-Zellen
- Location
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Dimensions
-
21 cm
- Extent
-
92 S.
- Language
-
Deutsch
- Notes
-
Ill., graph. Darst.
München, Univ. der Bundeswehr, Diss., 1998
- Keyword
-
EEPROM
Floating-Gate-Struktur
Gate-Oxid
Degradation
Nitride
Langzeitverhalten
- Creator
-
Mattheus, Alexander R.
- Table of contents
- Rights
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Last update
-
11.06.2025, 2:01 PM CEST
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Object type
- Hochschulschrift
Associated
- Mattheus, Alexander R.
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