Hochschulschrift
CMOS-Prozessintegration von epitaktischen Selten-Erden-Oxiden als high-K-Dielektrika auf SOI-Substraten
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISBN
-
9783832270445
3832270442
- Maße
-
21 cm
- Umfang
-
II, 131 S.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
Ill., graph. Darst.
Zugl.: Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 2007
- Klassifikation
-
Elektrotechnik, Elektronik
- Schlagwort
-
SOI-Technik
CMOS
High-k-Dielektrikum
Seltenerdmetall
Gate-Oxid
Epitaxieschicht
SOI-Technik
MOS-FET
High-k-Dielektrikum
Seltenerdmetall
Gate-Oxid
Epitaxieschicht
- Ereignis
-
Veröffentlichung
- (wo)
-
Aachen
- (wer)
-
Shaker
- (wann)
-
2008
- Urheber
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 13:53 MESZ
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
Entstanden
- 2008
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