Hochschulschrift
cw-laserinduzierte Rekristallisation ionenimplantierter amorphisierter (100)Silizium-Oberflächenschichten [Silizium-Oberflächenschichten]
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Maße
-
30 cm
- Umfang
-
59, [11] Bl.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
57 Ill. u. graph. Darst.
Jena, Univ., Diss. A, 1984 (Nicht f.d. Austausch)
- Schlagwort
-
Halbleiterbauelemente
Ionenimplantation
Halbleiterbauelement
Ionenimplantation
- Urheber
-
Hedler, Harry
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 13:56 MESZ
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Hedler, Harry
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