Hochschulschrift | Online-Publikation

Excimer-Laser-unterstützte Prozesse für die Siliziumtechnologie

Location
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Extent
Online-Ressource
Language
Deutsch
Notes
München, Univ. der Bundeswehr, Diss., 2002

Classification
Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau
Keyword
Silicium
Halbleitertechnologie
Excimerlaser
Silicium ; Halbleitertechnologie ; Excimer Laser ; Trockenätzen ; Dotierung ; Oxidation

Creator
Wang, Yan

URN
urn:nbn:de:bvb:706-419
Rights
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Last update
25.03.2025, 1:49 PM CET

Data provider

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Object type

  • Hochschulschrift
  • Online-Publikation

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  • Wang, Yan

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