Ionic/Electronic Dual‐Conductor Coating Layer Fabrication Enabling High‐Performance Silicon Anode

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Englisch

Erschienen in
Ionic/Electronic Dual‐Conductor Coating Layer Fabrication Enabling High‐Performance Silicon Anode ; day:01 ; month:12 ; year:2022 ; extent:8
Small structures ; (01.12.2022) (gesamt 8)

Urheber
Li, Liewu
Du, Baorong
Yang, Yizhao
Ye, Shenghua
Huang, Tao
Huang, Shaoluan
Ren, Xiangzhong
Hu, Jiangtao
Zhang, Qianling
Liu, Jianhong

DOI
10.1002/sstr.202200296
URN
urn:nbn:de:101:1-2022120214074050281627
Rechteinformation
Open Access; Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
15.08.2025, 07:27 MESZ

Datenpartner

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Beteiligte

  • Li, Liewu
  • Du, Baorong
  • Yang, Yizhao
  • Ye, Shenghua
  • Huang, Tao
  • Huang, Shaoluan
  • Ren, Xiangzhong
  • Hu, Jiangtao
  • Zhang, Qianling
  • Liu, Jianhong

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