Maskenlose Lithographie für die dreidimensionale Mikrostrukturierung

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Deutsch

Erschienen in
In: Erlangen-Nürnberg : Deutsche Gesellschaft für Angewandte Optik
In: DGaO-Proceedings(119, 2018)

Klassifikation
Elektrotechnik, Elektronik
Schlagwort
Lithografie
Hologramm
Photoresist

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Ilmenau
(wer)
TU Ilmenau
(wann)
2018
Urheber

URN
urn:nbn:de:0287-2018-B012-1
Rechteinformation
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
25.03.2025, 13:52 MEZ

Datenpartner

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Beteiligte

Entstanden

  • 2018

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