Hochschulschrift
Plasmaätzen zur Herstellung von Siliziumdurchkontaktierungen mit kontrolliertem Seitenwinkel für die dreidimensionale Integration im Wafer Level Packaging
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISBN
-
9783839610565
3839610567
- Maße
-
21 cm
- Umfang
-
151 Seiten
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
Illustrationen
Technische Universität Berlin, Dissertation, 2016
- Klassifikation
-
Elektrotechnik, Elektronik
- Schlagwort
-
Silicium-Durchkontaktierung
Plasmaätzen
Dreidimensionale Integration
Wafer level packaging
- Ereignis
-
Veröffentlichung
- (wo)
-
Stuttgart
- (wer)
-
Fraunhofer Verlag
- (wann)
-
[2016]
- Urheber
- Beteiligte Personen und Organisationen
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 14:18 MESZ
Datenpartner
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Wilke, Martin
- Fraunhofer IZM
- Fraunhofer IRB-Verlag
- Fraunhofer Verlag
Entstanden
- [2016]
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