Hochschulschrift
Stabilität der elastischen Eigenschaften mikromechanischer Schichtmaterialien der VLSI-Technologie
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Maße
-
21 cm
- Umfang
-
210 S.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
Ill., graph. Darst.
Bremen, Univ., Diss., 2000
- Schlagwort
-
Mehrschichtsystem
VLSI
Mikromechanik
Elastizität
Materialermüdung
Langzeitverhalten
- Urheber
-
Kapels, Hergen
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
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- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 13:59 MESZ
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Kapels, Hergen
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