Phase formation of photoactive TiO2 thin films by metal plasma immersion ion implantation and deposition
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISBN
-
9783954887460
- Maße
-
21 cm
- Umfang
-
99 S.
- Sprache
-
Englisch
- Anmerkungen
-
Ill., graph. Darst.
Literaturangaben
- Schlagwort
-
Titandioxid
Dünne Schicht
Ionenimplantation
Plasmaabscheidung
- Ereignis
-
Veröffentlichung
- (wo)
-
Leipzig
- (wer)
-
Engelsdorfer Verl.
- (wann)
-
2014
- Urheber
-
Gjevori, Altin
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 13:50 MESZ
Datenpartner
Deutsche Nationalbibliothek. Bei Fragen zum Objekt wenden Sie sich bitte an den Datenpartner.
Beteiligte
- Gjevori, Altin
- Engelsdorfer Verl.
Entstanden
- 2014