Hochschulschrift | Online-Publikation

Transporteigenschaften von Elektronen in Siliziumkarbid bei tiefen Temperaturen und im Kanal von Metall-Oxid-Halbleiter-Transistoren

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Deutsch
Anmerkungen
Erlangen, Nürnberg, Univ., Diss., 2005

Klassifikation
Physik
Schlagwort
Siliciumcarbid
Elektronenbeweglichkeit
Tieftemperatur
MOS-FET
Elektronenbeweglichkeit
Siliciumcarbid ; Hall-Effekt ; Impedanzspektroskopie ; n-Kanal-FET

Urheber

URN
urn:nbn:de:bvb:29-opus-1830
Rechteinformation
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Letzte Aktualisierung
15.08.2025, 07:23 MESZ

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Objekttyp

  • Hochschulschrift
  • Online-Publikation

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