Hochschulschrift | Online-Publikation
Transporteigenschaften von Elektronen in Siliziumkarbid bei tiefen Temperaturen und im Kanal von Metall-Oxid-Halbleiter-Transistoren
- Standort
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Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Umfang
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Online-Ressource
- Sprache
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Deutsch
- Anmerkungen
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Erlangen, Nürnberg, Univ., Diss., 2005
- Klassifikation
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Physik
- Schlagwort
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Siliciumcarbid
Elektronenbeweglichkeit
Tieftemperatur
MOS-FET
Elektronenbeweglichkeit
Siliciumcarbid ; Hall-Effekt ; Impedanzspektroskopie ; n-Kanal-FET
- Urheber
- URN
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urn:nbn:de:bvb:29-opus-1830
- Rechteinformation
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Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
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15.08.2025, 07:23 MESZ
Datenpartner
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Objekttyp
- Hochschulschrift
- Online-Publikation