Hochschulschrift
Verfahren zur Bestimmung der Dotierungsdichteverteilung in Siliziumscheiben mit dem Raster-Elektronenmikroskop
- Location
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Dimensions
-
30 cm
- Extent
-
[7], 118 S.
- Language
-
Deutsch
- Notes
-
Ill., graph. Darst.
München, Techn. Univ., Fak. für Elektrotechnik, Diss., 1980
- Keyword
-
Dotierung
Silizium
Dotierung
Silicium
- Creator
- Table of contents
- Rights
-
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- Last update
-
11.06.2025, 2:04 PM CEST
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Object type
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