Hochschulschrift

HREM-Bildanalyse von III-V-Halbleiter-Schichtstrukturen durch quantitativen Bildvergleich : Experiment - Simulation

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Maße
30 cm
Umfang
110 Bl.
Sprache
Deutsch
Anmerkungen
Ill., graph. Darst.
Halle, Univ., Diss., 2000

Schlagwort
Durchstrahlungselektronenmikroskopie
Hochauflösendes Verfahren
Drei-Fünf-Halbleiter
Schichtgitter
Silicium
Makropore
Photonischer Kristall
FT-IR-Spektroskopie
Lichtwellenleiter

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Letzte Aktualisierung
11.03.2025, 11:47 MEZ

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Objekttyp

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