Optical examination of high contrast grating fabricated by focused-ion beam etching

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
ISSN
1572-817X
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Englisch
Anmerkungen
online resource.

Erschienen in
Optical examination of high contrast grating fabricated by focused-ion beam etching ; volume:48 ; number:4 ; day:31 ; month:3 ; year:2016 ; pages:1-9 ; date:4.2016
Optical and quantum electronics ; 48, Heft 4 (31.3.2016), 1-9, 4.2016

Urheber
Urbańczyk, Dominika
Beteiligte Personen und Organisationen
Wójcik-Jedlińska, Anna
Muszalski, Jan
Łaszcz, Adam
Płuska, Mariusz
Gębski, Marcin
Czyszanowski, Tomasz
Czerwinski, Andrzej
Bugajski, Maciej
SpringerLink (Online service)

DOI
10.1007/s11082-016-0544-8
URN
urn:nbn:de:1111-2016040120380
Rechteinformation
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
14.08.2025, 11:00 MESZ

Datenpartner

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Beteiligte

  • Urbańczyk, Dominika
  • Wójcik-Jedlińska, Anna
  • Muszalski, Jan
  • Łaszcz, Adam
  • Płuska, Mariusz
  • Gębski, Marcin
  • Czyszanowski, Tomasz
  • Czerwinski, Andrzej
  • Bugajski, Maciej
  • SpringerLink (Online service)

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