Analysis on charge-retention characteristics of sub-threshold synaptic IGZO thin-film transistors with defective gate oxides

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Umfang
1 Online-Ressource.
Sprache
Englisch

Erschienen in
Analysis on charge-retention characteristics of sub-threshold synaptic IGZO thin-film transistors with defective gate oxides ; volume:14 ; number:1 ; day:24 ; month:5 ; year:2024 ; pages:1-7 ; date:12.2024
Scientific reports ; 14, Heft 1 (24.5.2024), 1-7, 12.2024

Urheber
Lee, Sungsik
Beteiligte Personen und Organisationen
SpringerLink (Online service)

DOI
10.1038/s41598-024-62872-9
URN
urn:nbn:de:101:1-2408051051326.101299892170
Rechteinformation
Open Access; Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
14.08.2025, 10:48 MESZ

Datenpartner

Dieses Objekt wird bereitgestellt von:
Deutsche Nationalbibliothek. Bei Fragen zum Objekt wenden Sie sich bitte an den Datenpartner.

Beteiligte

  • Lee, Sungsik
  • SpringerLink (Online service)

Ähnliche Objekte (12)