Hochschulschrift
Untersuchungen des Isolationsverhaltens von SF6 und SF6/N2-Gemischen bei Beanspruchung durch hochfrequent oszillierende Stossspannungen unter Verwendung eines weiterentwickelten Kurzzeitkamerasystems
- Location
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Dimensions
-
21 cm
- Extent
-
146 S.
- Language
-
Deutsch
- Notes
-
graph. Darst., Ill.
Darmstadt, Techn. Hochsch., Diss., 1992
- Creator
- Table of contents
- Rights
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Last update
-
11.03.2025, 12:08 PM CET
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Object type
- Hochschulschrift
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Teilentladungsmessungen in Hochspannungsanlagen mit N2-SF6-Gasgemischisolation
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SF6-Anlagen
Isolationsverhalten von N2-SF6-Gemischen für gasisolierte Anlagen
Beeinflussung der elektrischen Festigkeit von N2/SF6- und Luft/SF6-Isolationen durch Metallpartikel auf der Stützoberfläche
Möglichkeiten der Entladungsmeßtechnik mit einem optimierten Kurzzeitkamerasystem bei mit hochfrequent oszillierender Stoßspannung beanspruchter SF6-N2-Gasisolierungen
Untersuchung der Entwicklung des elektrischen Durchschlages in SF6 und SF6-N2 Gasgemischen für inhomogene Feldverteilung bei Impulsspannung
SF6-Anlagen und -Betriebsmittel
Optimierung potentialgesteuerter SF6-Kabel
Entladungsentwicklung in SF6-N2 Gasgemischen bei schnell schwingenden Steilstoßspannungen und Blitzstoßspannung
Untersuchungen zur Durchschlagsentwicklung in einer störstellenbehafteten SF6-Anordnung bei Beanspruchung mit hochfrequenten Steilstossspannungen
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