Atomic and Close-to-Atomic Scale Manufacturing: A Review on Atomic Layer Removal Methods Using Atomic Force Microscopy

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
ISSN
2520-8128
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Englisch
Anmerkungen
online resource.

Erschienen in
Atomic and Close-to-Atomic Scale Manufacturing: A Review on Atomic Layer Removal Methods Using Atomic Force Microscopy ; day:26 ; month:6 ; year:2020 ; pages:1-20
Nanomanufacturing and metrology ; (26.6.2020), 1-20

Urheber
Mathew, Paven Thomas
Rodriguez, Brian J.
Fang, Fengzhou
Beteiligte Personen und Organisationen
SpringerLink (Online service)

DOI
10.1007/s41871-020-00067-2
URN
urn:nbn:de:101:1-2020082723333392331564
Rechteinformation
Open Access; Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
14.08.2025, 10:49 MESZ

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Beteiligte

  • Mathew, Paven Thomas
  • Rodriguez, Brian J.
  • Fang, Fengzhou
  • SpringerLink (Online service)

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