Hochschulschrift
Elektrochemische Metallisierung organischer Schichten auf Metall- und Halbleiterelektroden
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Umfang
-
Online-Ressource
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
Ulm, Univ., Diss., 2010
- Schlagwort
-
Hydrosilylierung
Monoschicht
Komplexbindungsreaktion
Rhenium
Iridium
Thiazole
Immobilisierter Ligand
Elektronentransport
Elektrochemische Reduktion
Gold
Metallabscheidung
Palladium
Rhodium
Silicium
Elektrochemie
Galvanostegie
Galvanische Abscheidung
- Urheber
- URN
-
urn:nbn:de:bsz:289-vts-73721
- Rechteinformation
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
25.03.2025, 13:43 MEZ
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Objekttyp
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Beteiligte
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