Hochschulschrift

Untersuchung des langsamen Risswachstums von heissgepresstem Siliziumnitrid bei hohen Temperaturen

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Maße
30 cm
Umfang
178 S.
Sprache
Deutsch
Anmerkungen
106 Ill. u. graph. Darst.
Als Ms. vervielfältigt
Zugl.: Karlsruhe, Univ., Diss., 1982

Schlagwort
Rissbildung
Keramischer Werkstoff
Hochtemperatur
Siliziumnitrid
Rissbildung
Keramischer Werkstoff
Hochtemperatur
Silicium

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Karlsruhe
(wer)
Kernforschungszentrum
(wann)
1982
Urheber
Steinmann, Detlef

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Rechteinformation
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Letzte Aktualisierung
11.06.2025, 14:14 MESZ

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Objekttyp

  • Hochschulschrift

Beteiligte

  • Steinmann, Detlef
  • Kernforschungszentrum

Entstanden

  • 1982

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