Hochschulschrift
Untersuchung des langsamen Risswachstums von heissgepresstem Siliziumnitrid bei hohen Temperaturen
- Standort
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Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Maße
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30 cm
- Umfang
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178 S.
- Sprache
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Deutsch
- Anmerkungen
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106 Ill. u. graph. Darst.
Als Ms. vervielfältigt
Zugl.: Karlsruhe, Univ., Diss., 1982
- Schlagwort
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Rissbildung
Keramischer Werkstoff
Hochtemperatur
Siliziumnitrid
Rissbildung
Keramischer Werkstoff
Hochtemperatur
Silicium
- Ereignis
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Veröffentlichung
- (wo)
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Karlsruhe
- (wer)
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Kernforschungszentrum
- (wann)
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1982
- Urheber
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Steinmann, Detlef
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
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- Letzte Aktualisierung
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11.06.2025, 14:14 MESZ
Datenpartner
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Steinmann, Detlef
- Kernforschungszentrum
Entstanden
- 1982