Diffusion-driven precipitate growth and ripening of oxygen precipitates in boron doped silicon by dynamical x-ray diffraction

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Englisch

Erschienen in
In: Journal of Applied Physics 115, 123505 (2014): 07.04.2014

Klassifikation
Physik
Schlagwort
-

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Erlangen
(wer)
Friedrich-Alexander-Universität Erlangen-Nürnberg (FAU)
(wann)
2014
Beteiligte Personen und Organisationen
Will, Johannes
Gröschel, A.
Bergmann, C.
Spiecker, E.
Magerl, A.

URN
urn:nbn:de:bvb:29-opus4-44672
Rechteinformation
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Letzte Aktualisierung
14.08.2025, 10:53 MESZ

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Beteiligte

  • Will, Johannes
  • Gröschel, A.
  • Bergmann, C.
  • Spiecker, E.
  • Magerl, A.
  • Friedrich-Alexander-Universität Erlangen-Nürnberg (FAU)

Entstanden

  • 2014

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