Hochschulschrift
Der Einfluß von O2, H, H2O und CO auf die Bildung von β-FeSi2 [beta-FeSi-2] auf Si(111)
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISBN
-
9783832502294
3832502297
- Maße
-
21 cm
- Umfang
-
126 S.
- Ausgabe
-
1. Aufl.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
graph. Darst.
Zugl.: Erlangen, Nürnberg, Univ., Diss., 2003
- Schlagwort
-
Eisendisilicid
Dünne Schicht
MOCVD-Verfahren
Silicium
Halbleitersubstrat
Eisendisilicid
Kristallfläche
Adsorption
HREELS
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
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- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 13:58 MESZ
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Rygus, Peter
- Logos-Verl.
Entstanden
- 2003
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