Hochschulschrift
Structural analysis of HfO2 and HfSi2 ultra-thin films on Si(100) : . a photoelectron diffraction study
- Location
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Extent
-
Online-Ressource
- Language
-
Englisch
- Notes
-
Dortmund, Techn. Univ., Diss., 2008
- Classification
-
Physik
- Creator
-
Flüchter, Christian Rolf
- Handle
-
2003/25779
- URN
-
urn:nbn:de:hbz:290-2003/25779-3
- Rights
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Last update
-
14.08.2025, 10:53 AM CEST
Data provider
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Object type
- Hochschulschrift
Associated
- Flüchter, Christian Rolf
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