Atomic Layer Deposition of Nickel Using Ni(dmamb)2 and ZnO Adhesion Layer Without Plasma
- Standort
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Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Umfang
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1 Online-Ressource.
- Sprache
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Englisch
- Erschienen in
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Atomic Layer Deposition of Nickel Using Ni(dmamb)2 and ZnO Adhesion Layer Without Plasma ; volume:7 ; number:1 ; day:20 ; month:9 ; year:2024 ; pages:1-11 ; date:12.2024
Nanomanufacturing and metrology ; 7, Heft 1 (20.9.2024), 1-11, 12.2024
- Urheber
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Baker, Kaiya
Brown, Hayden
Gebre, Fisseha
Xu, Jiajun
- Beteiligte Personen und Organisationen
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SpringerLink (Online service)
- DOI
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10.1007/s41871-024-00238-5
- URN
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urn:nbn:de:101:1-2412032101272.312257914131
- Rechteinformation
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Open Access; Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
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15.08.2025, 07:33 MESZ
Datenpartner
Deutsche Nationalbibliothek. Bei Fragen zum Objekt wenden Sie sich bitte an den Datenpartner.
Beteiligte
- Baker, Kaiya
- Brown, Hayden
- Gebre, Fisseha
- Xu, Jiajun
- SpringerLink (Online service)