RuAl Thin‐Film Deposition by DC Magnetron Sputtering

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Englisch

Erschienen in
RuAl Thin‐Film Deposition by DC Magnetron Sputtering ; day:13 ; month:06 ; year:2024 ; extent:9
Advanced engineering materials ; (13.06.2024) (gesamt 9)

Urheber
Ott, Vincent
Wojcik, Tomasz
Kolozsvari, Szilard
Polcik, Peter
Schäfer, Christian
Pauly, Christoph
Mücklich, Frank
Ulrich, Sven
Mayrhofer, Paul H.
Riedl-Tragenreif, Helmut
Stüber, Michael

DOI
10.1002/adem.202400258
URN
urn:nbn:de:101:1-2406141404587.189556318116
Rechteinformation
Open Access; Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
14.08.2025, 10:50 MESZ

Datenpartner

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