Growth and characterization of epitaxial gallium oxide films

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Englisch
Anmerkungen
Berlin, Technische Universität Berlin, Dissertation, 2023

Schlagwort
Dünne Schicht
Schichtwachstum
Kristallwachstum

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Berlin
(wer)
Technische Universität Berlin
(wann)
2023
Urheber
Beteiligte Personen und Organisationen
Bickermann, Matthias
Bickermann, Matthias
Flege, Jan Ingo
Kutsukake, Kentaro

DOI
10.14279/depositonce-17849
Handle
11303/19053
URN
urn:nbn:de:101:1-2023061402001910119068
Rechteinformation
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
25.03.2025, 13:46 MEZ

Datenpartner

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Beteiligte

  • Chou, Ta-Shun
  • Bickermann, Matthias
  • Flege, Jan Ingo
  • Kutsukake, Kentaro
  • Technische Universität Berlin

Entstanden

  • 2023

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