Hochschulschrift
Fabrication and application of self-masked silicon nanostructures in deep reactive ion etching processes
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Umfang
-
Online-Ressource
- Sprache
-
Englisch
- Anmerkungen
-
Ilmenau, Techn. Univ., Diss., 2010
- Schlagwort
-
Industriechemikalie
Silicium
Plasmatechnik
- Ereignis
-
Veröffentlichung
- (wo)
-
Ilmenau
- (wer)
-
Universitätsbibliothek Ilmenau
- (wann)
-
2010
- Urheber
- Beteiligte Personen und Organisationen
- URN
-
urn:nbn:de:gbv:ilm1-2010000371
- Rechteinformation
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
25.03.2025, 13:44 MEZ
Datenpartner
Dieses Objekt wird bereitgestellt von:
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Kremin, Christoph
- Hoffmann, Martin
- Schaaf, Peter
- Schnakenberg, Uwe
- Universitätsbibliothek Ilmenau
Entstanden
- 2010
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