Hochschulschrift
Entwicklung eines In-situ-Mess-und-Regelsystems für Halbleiterfertigungsprozesse am Beispiel der thermischen Oxidation von Silizium
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISBN
-
9783861115113
3861115115
- Maße
-
21 cm
- Umfang
-
VIII, 144 S.
- Ausgabe
-
Als Ms. gedr.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
graph. Darst.
Zugl.: Erlangen-Nürnberg, Univ., Diss., 1993
- Schlagwort
-
Prozessmesstechnik
Halbleitertechnologie
Schichtdicke
Dickenmessung
Silicium
Oxidation
Prozessregelung
Halbleitertechnologie
Schichtdicke
Dickenmessung
Silicium
Oxidation
- Ereignis
-
Veröffentlichung
- (wo)
-
Aachen
- (wer)
-
Shaker
- (wann)
-
1993
- Urheber
-
Schneider, Claus
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 14:14 MESZ
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Schneider, Claus
- Shaker
Entstanden
- 1993
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