Hochschulschrift
Röntgenphotoelektronenspektroskopische Untersuchungen zur Charakterisierung von Si-SiOx-SiO2-Schichtsystemen und von SiOx für die Mikroelektronik
- Location
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Dimensions
-
30 cm
- Extent
-
100 Bl.
- Language
-
Deutsch
- Notes
-
35 graph. Darst.
Leipzig, Univ., Diss. A, 1984 (Nicht f.d. Austausch)
- Keyword
-
Mikroelektronik
Siliziumdioxid
Mikroelektronik
Siliciumdioxid
- Creator
- Table of contents
- Rights
-
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- Last update
-
11.03.2025, 11:44 AM CET
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- Hochschulschrift
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![Elektronische Eigenschaften von a-SiOx:H-Filmen [a-SiOx-H-Filmen]](/assets/placeholder/searchResultMediaNoDigitisedMedia.png)
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