Hochschulschrift

Diffusion of gold in silicon with the rapid thermal processing for high speed bipolar switching transistors

Location
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Dimensions
21 cm
Extent
85 S.
Language
Deutsch
Notes
graph. Darst.
Hamburg-Harburg, Techn. Univ., Diss., 1994

Keyword
Rapid thermal processing
Gold
Diffusion
Silicium
Bipolartransistor

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Last update
11.06.2025, 1:32 PM CEST

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