Effective passivation of crystalline silicon surfaces by ultrathin atomic-layer-deposited TiOx layers
- Location
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Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Extent
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Online-Ressource
- Language
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Englisch
- Bibliographic citation
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In: Titova, V.; Veith-Wolf, B.; Startsev, D.; Schmidt, J.: Effective passivation of crystalline silicon surfaces by ultrathin atomic-layer-deposited TiOx layers. In: Energy Procedia 124 (2017), S. 441-447. DOI: https://doi.org/10.1016/j.egypro.2017.09.272
- Event
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Veröffentlichung
- (where)
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Hannover
- (who)
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Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover
- (when)
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2017
- Event
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Veröffentlichung
- (where)
-
Hannover
- (who)
-
Technische Informationsbibliothek (TIB)
- (when)
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2017
- Creator
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Titova, V.
Veith-Wolf, B.
Startsev, D.
Schmidt, J.
- DOI
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10.15488/2268
- URN
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urn:nbn:de:101:1-2020071616050890170381
- Rights
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Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Last update
-
14.08.2025, 10:47 AM CEST
Data provider
Deutsche Nationalbibliothek. If you have any questions about the object, please contact the data provider.
Associated
- Titova, V.
- Veith-Wolf, B.
- Startsev, D.
- Schmidt, J.
- Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover
- Technische Informationsbibliothek (TIB)
Time of origin
- 2017