Hochschulschrift
Untersuchungen zur Diffusion von Eigenpunktdefekten in Silizium und Galliumarsenid
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Maße
-
30 cm
- Umfang
-
III, 108 S.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
Ill., graph. Darst.
Halle, Univ., Diss., 1999
- Schlagwort
-
Silicium
Eigenfehlstelle
Diffusion
Kohlenstoff
Galliumarsenid
Arsen
Selbstdiffusion
Galliumarsenid
Eigenfehlstelle
Diffusion
Schwefel
- Urheber
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
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- Letzte Aktualisierung
- 11.06.2025, 13:32 MESZ
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Objekttyp
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Beteiligte
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