Hochschulschrift

Untersuchung des elektronischen Transports an 28 nm MOSFETs und an Schottky-Barrieren FETs aus Silizium-Nanodrähten

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Maße
21 cm
Umfang
xi, 171 Seiten
Sprache
Deutsch
Anmerkungen
Illustrationen
Technische Universität Dresden, Dissertation, 2018

Klassifikation
Elektrotechnik, Elektronik
Schlagwort
MOS-FET
Schottky-Kontakt
Transistor
Magnetowiderstand
Nanodraht

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Dresden
(wann)
[2018]
Urheber

Inhaltsverzeichnis
Rechteinformation
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Letzte Aktualisierung
11.06.2025, 13:50 MESZ

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Objekttyp

  • Hochschulschrift

Beteiligte

Entstanden

  • [2018]

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