Large-scale Patterning of Hydrophobic Silicon Nanostructure Arrays Fabricated by Dual Lithography and Deep Reactive Ion Etching
- Standort
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Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISSN
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2150-5551
- Umfang
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Online-Ressource
- Sprache
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Englisch
- Anmerkungen
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online resource.
- Erschienen in
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Large-scale Patterning of Hydrophobic Silicon Nanostructure Arrays Fabricated by Dual Lithography and Deep Reactive Ion Etching ; volume:5 ; number:1 ; day:30 ; month:1 ; year:2013 ; pages:7-12 ; date:3.2013
Nano-Micro letters ; 5, Heft 1 (30.1.2013), 7-12, 3.2013
- Urheber
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Ma, Zhibo
- Beteiligte Personen und Organisationen
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Jiang, Chengyu
Yuan, Weizheng
He, Yang
SpringerLink (Online service)
- DOI
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10.1007/BF03353725
- URN
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urn:nbn:de:1111-2016052052563
- Rechteinformation
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Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
- 14.08.2025, 10:45 MESZ
Datenpartner
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Beteiligte
- Ma, Zhibo
- Jiang, Chengyu
- Yuan, Weizheng
- He, Yang
- SpringerLink (Online service)