Large-scale Patterning of Hydrophobic Silicon Nanostructure Arrays Fabricated by Dual Lithography and Deep Reactive Ion Etching

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
ISSN
2150-5551
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Englisch
Anmerkungen
online resource.

Erschienen in
Large-scale Patterning of Hydrophobic Silicon Nanostructure Arrays Fabricated by Dual Lithography and Deep Reactive Ion Etching ; volume:5 ; number:1 ; day:30 ; month:1 ; year:2013 ; pages:7-12 ; date:3.2013
Nano-Micro letters ; 5, Heft 1 (30.1.2013), 7-12, 3.2013

Urheber
Ma, Zhibo
Beteiligte Personen und Organisationen
Jiang, Chengyu
Yuan, Weizheng
He, Yang
SpringerLink (Online service)

DOI
10.1007/BF03353725
URN
urn:nbn:de:1111-2016052052563
Rechteinformation
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
14.08.2025, 10:45 MESZ

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Beteiligte

  • Ma, Zhibo
  • Jiang, Chengyu
  • Yuan, Weizheng
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