Influence of the epitaxial composition on N-face GaN KOH etch kinetics determined by ICP-OES
- Location
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Extent
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Online-Ressource
- Language
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Englisch
- Bibliographic citation
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Influence of the epitaxial composition on N-face GaN KOH etch kinetics determined by ICP-OES ; volume:11 ; pages:41-50
Beilstein journal of nanotechnology ; 11, 41-50
- Classification
-
Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau
- DOI
-
10.3762/bjnano.11.4
- URN
-
urn:nbn:de:101:1-2020112714443462225459
- Rights
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Last update
-
15.08.2025, 7:22 AM CEST
Data provider
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