Hochschulschrift

Verfahren zur Bestimmung der Dotierungsdichteverteilung in Siliziumscheiben mit dem Raster-Elektronenmikroskop

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Maße
30 cm
Umfang
[7], 118 S.
Sprache
Deutsch
Anmerkungen
Ill., graph. Darst.
München, Techn. Univ., Fak. für Elektrotechnik, Diss., 1980

Schlagwort
Dotierung
Silizium
Dotierung
Silicium

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Letzte Aktualisierung
11.06.2025, 14:04 MESZ

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Objekttyp

  • Hochschulschrift

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