Hochschulschrift
Ion induced stress relaxation during the growth of cubic boron nitride thin films
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Maße
-
30 cm
- Umfang
-
IV, 111 S.
- Ausgabe
-
Als Ms. gedr.
- Sprache
-
Englisch
- Anmerkungen
-
Ill., graph. Darst.
Auch im Internet unter der Adresse http://hsss.slub-dresden.de verfügbar
Zugl.: Dresden, Techn. Univ., Diss., 2004
- Erschienen in
-
Wissenschaftlich-technische Berichte / Forschungszentrum Rossendorf ; 406
- Reihe
-
Wissenschaftlich-technische Berichte / FZR, Forschungszentrum Rossendorf; 406
- Klassifikation
-
Physik
- Schlagwort
-
Bornitrid
Dünne Schicht
Magnetronsputtern
Röntgendiffraktometrie
Spannungsrelaxation
133078 ; Bornitrid ; Dünne Schicht ; Magnetronsputtern ; Röntgendiffraktometrie ; Spannungsrelaxation
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
- 17.02.2026, 13:06 MEZ
Datenpartner
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
Entstanden
- 2004
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