Hochschulschrift

Heißdraht-CVD von Siliziumschichten : Untersuchungen zur Stabilisierung des Abscheideprozesses

Location
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
ISBN
9783839605288
Dimensions
21 cm
Extent
IX, 172 S.
Language
Deutsch
Notes
Ill., graph. Darst.
Zugl.: Braunschweig, Techn. Univ., Diss., 2013

Bibliographic citation
Berichte aus Forschung und Entwicklung / Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik ; Nr. 036

Keyword
Cat-CVD-Verfahren
Silan
Wolframdraht
Phasenumwandlung
Silicide

Event
Veröffentlichung
(where)
Stuttgart
(who)
Fraunhofer-Verl.
(when)
2013
Creator
Laukart, Artur

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Last update
11.06.2025, 1:49 PM CEST

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Object type

  • Hochschulschrift

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  • Laukart, Artur
  • Fraunhofer-Verl.

Time of origin

  • 2013

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