Hochschulschrift
Heißdraht-CVD von Siliziumschichten : Untersuchungen zur Stabilisierung des Abscheideprozesses
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISBN
-
9783839605288
- Maße
-
21 cm
- Umfang
-
IX, 172 S.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
Ill., graph. Darst.
Zugl.: Braunschweig, Techn. Univ., Diss., 2013
- Erschienen in
-
Berichte aus Forschung und Entwicklung / Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik ; Nr. 036
- Schlagwort
-
Cat-CVD-Verfahren
Silan
Wolframdraht
Phasenumwandlung
Silicide
- Ereignis
-
Veröffentlichung
- (wo)
-
Stuttgart
- (wer)
-
Fraunhofer-Verl.
- (wann)
-
2013
- Urheber
-
Laukart, Artur
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 13:49 MESZ
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Laukart, Artur
- Fraunhofer-Verl.
Entstanden
- 2013
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