Electric-field-induced crystallization of Hf0.5Zr0.5O2 thin film based on phase-field modeling
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Umfang
-
1 Online-Ressource.
- Sprache
-
Englisch
- Erschienen in
-
Electric-field-induced crystallization of Hf0.5Zr0.5O2 thin film based on phase-field modeling ; volume:9 ; number:1 ; day:23 ; month:5 ; year:2024 ; pages:1-6 ; date:12.2024
npj quantum materials ; 9, Heft 1 (23.5.2024), 1-6, 12.2024
- Urheber
-
Liu, Zhaobo
Shi, Xiaoming
Wang, Jing
Huang, Houbing
- Beteiligte Personen und Organisationen
-
SpringerLink (Online service)
- DOI
-
10.1038/s41535-024-00652-4
- URN
-
urn:nbn:de:101:1-2408020929257.660074089571
- Rechteinformation
-
Open Access; Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
14.08.2025, 10:56 MESZ
Datenpartner
Dieses Objekt wird bereitgestellt von:
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Beteiligte
- Liu, Zhaobo
- Shi, Xiaoming
- Wang, Jing
- Huang, Houbing
- SpringerLink (Online service)
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