On‐Chip Arrayed Waveguide Grating Fabricated on Thin‐Film Lithium Niobate

Herein, an on‐chip 8‐channel thin‐film lithium niobate (TFLN) arrayed waveguide grating (AWG) is designed and the device is fabricated using photolithography‐assisted chemo‐mechanical etching technique. The transmission of the fabricated TFLN AWG near the central wavelength of 1550 nm is experimentally measured. An on‐chip loss as low as 3.32 dB, a single‐channel bandwidth of 1.6 nm, and a total‐channel bandwidth of 12.8 nm are obtained. The cross talk between adjacent channels is measured to be below −3.83 dB within the wavelength range from 1543 to 1558 nm, and the cross talk between nonadjacent channels is below −15 dB.

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Englisch

Erschienen in
On‐Chip Arrayed Waveguide Grating Fabricated on Thin‐Film Lithium Niobate ; day:02 ; month:11 ; year:2023 ; extent:5
Advanced photonics research ; (02.11.2023) (gesamt 5)

Urheber
Wang, Zhe
Fang, Zhiwei
Liu, Zhaoxiang
Liang, Youting
Liu, Jian
Yu, Jianping
Huang, Ting
Zhou, Yuan
Zhang, Haisu
Wang, Min
Cheng, Ya

DOI
10.1002/adpr.202300228
URN
urn:nbn:de:101:1-2023110314143243000942
Rechteinformation
Open Access; Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
14.08.2025, 11:01 MESZ

Datenpartner

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Beteiligte

  • Wang, Zhe
  • Fang, Zhiwei
  • Liu, Zhaoxiang
  • Liang, Youting
  • Liu, Jian
  • Yu, Jianping
  • Huang, Ting
  • Zhou, Yuan
  • Zhang, Haisu
  • Wang, Min
  • Cheng, Ya

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