Hochschulschrift
Entwicklung und Charakterisierung eines ionenunterstützten reaktiven Aufdampfverfahrens mit In-situ-HEED-Struktur- und AES-Konstitutionsanalyse der wachsenden keramischen Schicht
- Standort
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Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Maße
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30 cm
- Umfang
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II, 161 Bl.
- Sprache
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Deutsch
- Anmerkungen
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Ill., graph. Darst.
Aachen, Techn. Hochsch., Habil.-Schr., 1996
- Schlagwort
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PVD-Verfahren
Dünne Schicht
Kupfernitride
Elektronenbeugung
Auger-Spektroskopie
PVD-Verfahren
Dünne Schicht
Aluminiumnitrid
Elektronenbeugung
Auger-Spektroskopie
- Urheber
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
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- Letzte Aktualisierung
- 11.06.2025, 13:59 MESZ
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Objekttyp
- Hochschulschrift