Hochschulschrift

Entwicklung und Charakterisierung eines ionenunterstützten reaktiven Aufdampfverfahrens mit In-situ-HEED-Struktur- und AES-Konstitutionsanalyse der wachsenden keramischen Schicht

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Maße
30 cm
Umfang
II, 161 Bl.
Sprache
Deutsch
Anmerkungen
Ill., graph. Darst.
Aachen, Techn. Hochsch., Habil.-Schr., 1996

Schlagwort
PVD-Verfahren
Dünne Schicht
Kupfernitride
Elektronenbeugung
Auger-Spektroskopie
PVD-Verfahren
Dünne Schicht
Aluminiumnitrid
Elektronenbeugung
Auger-Spektroskopie

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Letzte Aktualisierung
11.06.2025, 13:59 MESZ

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Objekttyp

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