Tantalum-doped tin oxide thin films using hollow cathode gas flow sputtering technology

Location
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Extent
Online-Ressource
Language
Englisch

Bibliographic citation
In: Heliyon (10:10) - Amsterdam : Elsevier - Art.-Id. e30943

Event
Veröffentlichung
(where)
Berlin
(who)
Technische Universität Berlin
(when)
2024
Creator
Huo, Fangfang
Muydinov, Ruslan
Seibertz, Bertwin Bilgrim Otto
Wang, Can
Hartig, Manuel
Alktash, Nivin
Gao, Peng
Szyszka, Bernd

DOI
10.14279/depositonce-20882
Handle
11303/22081
URN
urn:nbn:de:101:1-2407030158158.064720382889
Rights
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Last update
14.08.2025, 10:47 AM CEST

Data provider

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  • Huo, Fangfang
  • Muydinov, Ruslan
  • Seibertz, Bertwin Bilgrim Otto
  • Wang, Can
  • Hartig, Manuel
  • Alktash, Nivin
  • Gao, Peng
  • Szyszka, Bernd
  • Technische Universität Berlin

Time of origin

  • 2024

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