Tantalum-doped tin oxide thin films using hollow cathode gas flow sputtering technology
- Location
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Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Extent
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Online-Ressource
- Language
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Englisch
- Bibliographic citation
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In: Heliyon (10:10) - Amsterdam : Elsevier - Art.-Id. e30943
- Event
-
Veröffentlichung
- (where)
-
Berlin
- (who)
-
Technische Universität Berlin
- (when)
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2024
- Creator
-
Huo, Fangfang
Muydinov, Ruslan
Seibertz, Bertwin Bilgrim Otto
Wang, Can
Hartig, Manuel
Alktash, Nivin
Gao, Peng
Szyszka, Bernd
- DOI
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10.14279/depositonce-20882
- Handle
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11303/22081
- URN
-
urn:nbn:de:101:1-2407030158158.064720382889
- Rights
-
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Last update
-
14.08.2025, 10:47 AM CEST
Data provider
Deutsche Nationalbibliothek. If you have any questions about the object, please contact the data provider.
Associated
- Huo, Fangfang
- Muydinov, Ruslan
- Seibertz, Bertwin Bilgrim Otto
- Wang, Can
- Hartig, Manuel
- Alktash, Nivin
- Gao, Peng
- Szyszka, Bernd
- Technische Universität Berlin
Time of origin
- 2024