Hochschulschrift
Methodische und angewandte Arbeiten zum EBIC-Verfahren an Halbleiter-Silizium und Bauelementen auf Silizium-Basis
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- Maße
-
30 cm
- Umfang
-
167, 5 Bl.
- Sprache
-
Deutsch
- Anmerkungen
-
Ill., graph. Darst.
Berlin, Akad. d. Wiss. d. DDR, Diss. A, 1984 (Nicht f.d. Austausch)
- Schlagwort
-
Electron beam induced current-Methode
Silizium
Halbleiter
EBIC-Methode
Elektronenstrahl-Beschichtung
Silicium
Halbleiter
- Urheber
-
Kittler, Martin
Seifert, Winfried
- Inhaltsverzeichnis
- Rechteinformation
-
Bei diesem Objekt liegt nur das Inhaltsverzeichnis digital vor. Der Zugriff darauf ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
11.06.2025, 13:42 MESZ
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Objekttyp
- Hochschulschrift
Beteiligte
- Kittler, Martin
- Seifert, Winfried
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