Emergence of a Thermal Hysteresis of Electrical Resistance by Thinning in 1T-TiSe2

Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Umfang
1 Online-Ressource.
Sprache
Englisch

Erschienen in
Emergence of a Thermal Hysteresis of Electrical Resistance by Thinning in 1T-TiSe2 ; volume:213 ; number:3-4 ; day:28 ; month:9 ; year:2023 ; pages:215-222 ; date:11.2023
Journal of low temperature physics ; 213, Heft 3-4 (28.9.2023), 215-222, 11.2023

Urheber
Nomura, Atsushi
Demura, Satoshi
Ohta, Shun
Kobayashi, Sora
Sakata, Hideaki
Beteiligte Personen und Organisationen
SpringerLink (Online service)

DOI
10.1007/s10909-023-02999-7
URN
urn:nbn:de:101:1-2024010810042705743501
Rechteinformation
Open Access; Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
15.08.2025, 07:36 MESZ

Datenpartner

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Beteiligte

  • Nomura, Atsushi
  • Demura, Satoshi
  • Ohta, Shun
  • Kobayashi, Sora
  • Sakata, Hideaki
  • SpringerLink (Online service)

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