Toward Single-Atomic-Layer Lithography on Highly Oriented Pyrolytic Graphite Surfaces Using AFM-Based Electrochemical Etching
- Standort
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Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISSN
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2520-8128
- Umfang
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Online-Ressource
- Sprache
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Englisch
- Anmerkungen
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online resource.
- Erschienen in
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Toward Single-Atomic-Layer Lithography on Highly Oriented Pyrolytic Graphite Surfaces Using AFM-Based Electrochemical Etching ; volume:5 ; number:1 ; day:11 ; month:3 ; year:2022 ; pages:32-38 ; date:3.2022
Nanomanufacturing and metrology ; 5, Heft 1 (11.3.2022), 32-38, 3.2022
- Urheber
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Han, Wei
Mathew, Paven Thomas
Kolagatla, Srikanth
Rodriguez, Brian J.
Fang, Fengzhou
- Beteiligte Personen und Organisationen
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SpringerLink (Online service)
- DOI
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10.1007/s41871-022-00127-9
- URN
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urn:nbn:de:101:1-2022061809230264213444
- Rechteinformation
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Open Access; Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
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15.08.2025, 07:22 MESZ
Datenpartner
Deutsche Nationalbibliothek. Bei Fragen zum Objekt wenden Sie sich bitte an den Datenpartner.
Beteiligte
- Han, Wei
- Mathew, Paven Thomas
- Kolagatla, Srikanth
- Rodriguez, Brian J.
- Fang, Fengzhou
- SpringerLink (Online service)