Nanotribological properties and scratch resistance of MoS2 bilayer on a SiO2/Si substrate
- Standort
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISSN
-
2223-7704
- Umfang
-
Online-Ressource
- Sprache
-
Englisch
- Anmerkungen
-
online resource.
- Erschienen in
-
Nanotribological properties and scratch resistance of MoS2 bilayer on a SiO2/Si substrate ; day:12 ; month:4 ; year:2022 ; pages:1-11
Friction ; (12.4.2022), 1-11
- Urheber
-
Kim, Si-hwan
Ahn, Hyo-sok
- Beteiligte Personen und Organisationen
-
SpringerLink (Online service)
- DOI
-
10.1007/s40544-022-0595-8
- URN
-
urn:nbn:de:101:1-2022062722112330305349
- Rechteinformation
-
Open Access; Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
- Letzte Aktualisierung
-
15.08.2025, 07:30 MESZ
Datenpartner
Dieses Objekt wird bereitgestellt von:
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Beteiligte
- Kim, Si-hwan
- Ahn, Hyo-sok
- SpringerLink (Online service)
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