Optical evaluation of doping concentration in SiO 2 doping source layer for silicon quantum dot materials

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Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Englisch

Erschienen in
In: 10.1051/epjpv/2011024

Ereignis
Veröffentlichung
(wo)
Aachen
(wer)
Universitätsbibliothek der RWTH Aachen
(wann)
2011
Urheber
Zhang, T.
Perez-Wurlf, I.
Berghoff, B.
Suckow, S.
Conibeer, G.

DOI
10.18154/RWTH-2020-00534
URN
urn:nbn:de:101:1-2021042803253702846628
Rechteinformation
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
25.03.2025, 13:44 MEZ

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Beteiligte

  • Zhang, T.
  • Perez-Wurlf, I.
  • Berghoff, B.
  • Suckow, S.
  • Conibeer, G.
  • Universitätsbibliothek der RWTH Aachen

Entstanden

  • 2011

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