Hochschulschrift

Modifiziertes Lagekorrelationsverfahren für die Topographiemarkenerkennung

Location
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
Dimensions
21 cm
Extent
III, 127 S.
Language
Deutsch
Notes
Ill., graph. Darst.
Aachen, Techn. Hochsch. Diss., 1985

Keyword
Elektronenstrahl-Lithographie
Elektronenstrahl-Beschichtung

Creator
Schulte, Hans Reiner

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Rights
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Last update
11.06.2025, 1:43 PM CEST

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Object type

  • Hochschulschrift

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  • Schulte, Hans Reiner

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