193 nm ArF laser ablation and patterning of chitosan thin films

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Standort
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
ISSN
1432-0630
Umfang
Online-Ressource
Sprache
Englisch
Anmerkungen
online resource.

Erschienen in
193 nm ArF laser ablation and patterning of chitosan thin films ; volume:124 ; number:6 ; day:23 ; month:5 ; year:2018 ; pages:1-10 ; date:6.2018
Applied physics / A. A, Materials science & processing ; 124, Heft 6 (23.5.2018), 1-10, 6.2018

Klassifikation
Physik

Urheber
Aesa, A. A.
Beteiligte Personen und Organisationen
Walton, C. D.
SpringerLink (Online service)

DOI
10.1007/s00339-018-1859-z
URN
urn:nbn:de:101:1-2018081218122492477943
Rechteinformation
Der Zugriff auf das Objekt ist unbeschränkt möglich.
Letzte Aktualisierung
15.08.2025, 07:21 MESZ

Datenpartner

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Beteiligte

  • Aesa, A. A.
  • Walton, C. D.
  • SpringerLink (Online service)

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